Objectifs de la formation
Au travers de cette AF les élèves-ingénieurs prennent en main les différents aspects de la conception et la réalisation de composants nano-photoniques en optique guidée, sur substrat Silicium. Après une introduction (contexte de la photonique intégrée sur Si, enjeux), les élèves-ingénieurs conçoivent à l'aide d'outils de simulation dédiés les différentes briques de base photoniques nécessaires à la fabrication de systèmes complexes de routage/guidage de la lumière sur Si. Ils travaillent sur les différents aspects de fabrication en salle blanche (lithographies optique et électronique, gravure assistée par plasma,…). Les structures fabriquées sont ensuite caractérisées par des microscopies optique et électronique.
Mots-clés
Nano-photonique, composants photoniques, optique guidée, lithographie, microscopie.
Programme
BE1 (2h) : contexte, enjeux de la nanophotonique sur Silicium, description des outils et des méthodes (simulation, fabrication en salle blanche) TP1 (4h) : simulation des structures et composants de base TP2 (10h) : fabrication des composants en optique guidée en salle blanche TP3 (4h) : caractérisations structurale (microscope électronique) et optique (banc de caractérisation en optique guidée) des composants fabriqués.
Compétences visées
- Comprendre les enjeux et problématiques de la photonique sur Silicium.
- Connaître et utiliser plusieurs techniques et équipements utilisés dans les nanotechnologies.
- Approche du travail en environnement de salle blanche.
- Concevoir et réaliser un système photonique intégré.
Évaluation
30 % savoir (questions théoriques), 30% savoir-être (implication et participation active), 40% savoir-faire (méthodologie, compte rendu expérimental)